По сообщению источников Reuters, Китай сделал важный шаг в гонке за полупроводниковую независимость: в стране началось серийное производство иммерсионных степперов глубокого ультрафиолета (DUV). Это ключевое оборудование для производства чипов, где исторически доминирует нидерландский гигант ASML.
По сообщению источников Reuters, Китай сделал важный шаг в гонке за полупроводниковую независимость: в стране началось серийное производство иммерсионных степперов глубокого ультрафиолета (DUV). Это ключевое оборудование для производства чипов, где исторически доминирует нидерландский гигант ASML.
Главная особенность иммерсионных DUV-систем — использование слоя воды между линзой и кремниевой пластиной, что позволяет печатать более мелкие схемы и выпускать более продвинутые процессоры методом многократного экспонирования. Иммерсионная DUV-литография позволяет в один проход печатать чипы по 28 нм техпроцессу с возможностью ужаться до 7 нм, но тогда пластину приходится облучать несколько раз, из-за чего чаще сбивается точность наложения слоёв и растёт количество брака.
За производством стоит малоизвестная шанхайская госструктура Aishengna Electronic Technology Group. Компания с уставным капиталом 7 млрд юаней ($1 млрд) была создана в августе 2023 года при поддержке шанхайских властей и фактически объединила под своей крышей инженерные команды стартапа Yuliangsheng, аффилированного с Huawei, и главного китайского производителя литографов SMEE. У Aishengna даже нет собственного сайта, а деятельность полностью засекречена.
В этом году компания планирует собрать около 5 иммерсионных установок, а к 2027 году выйти на объём около 20 штук в год. Первые отечественные DUV-литографы уже в этом году должны отправиться ключевым китайским чипмейкерам — SMIC, Hua Hong Semiconductor и производителю памяти CXMT.
Рынок отреагировал на инсайд нервно: акции ASML просели. Появление китайского аналога создаёт для местных фабрик долгожданную страховку на случай полного закручивания гаек Западом.
Но эксперты и аналитики призывают не торопить события и пока не видят прямой коммерческой угрозы для ASML. Первая причина — технологический отставание: китайским машинам всё ещё требуются длительные тесты, и по характеристикам они пока далеко позади голландских моделей. Вторая — сложность массового производства: в JP Morgan отмечают, что собрать несколько рабочих машин — не значит запустить их в массовое производство. На фабриках критически важны выход годных чипов, точность совмещения слоёв, надёжность и скорость работы при обработке тысяч пластин.
Тем не менее запуск собственного производства DUV-систем — ключевой элемент стратегии Пекина. Параллельно Китай разрабатывает и прототип ещё более сложной EUV-системы, хотя до её реальной сборки на заводах пройдут годы.
Релоцировались? Теперь вы можете комментировать без верификации аккаунта.
такие тайные что про них новости уже который год, например в прошлом вроде бы в сентябре поставили на завод пром образец и т.д.
ну то есть то что обычно просто называют 28 нм. Хз откуда на всех сайтах дурацка яприписка про 7нм и почему к остальным литогрофам тогда не добавляют типа 14 но теоретически, за х100 цены и с выходом годных 5% можем и 2 нм.
Посмотрим к чему приведёт конкуренция
Почему-то Canon и Nikon до сих пор никому мощный удар не нанесли, хотя десятилетиями производят то же самое, а эти шпаки так прямо всех разнесут