Китайские ученые разработали технологию, которая приближает производство 1-нм чипов

Современные технологии наращивания слоев на подложках работают по принципу осаждения материала из точки распыления на поверхность. Таким способом невозможно нанести пленку толщиной в один атом на крупные пластины — только на небольшие до 2 дюймов в диаметре.

Китайские ученые разработали технологию, которая наращивает атомарный слой на любых подложках вплоть до 300-мм. В основе технологии лежит контактный метод выращивания пленки: активный материал входит в контакт с подложкой по всей поверхности сразу.

Также исследователи создали проект установки для выращивания тонких пленок в массовых объемах. Одна такая установка может выпускать до 10 тысяч 300-мм подложек в год. Технология подходит для покрытия подложек графеном, что позволит внедрит материал в производство чипов.

Сейчас 2D-материалы толщиной в один атом только исследуются для использования в структурах транзисторов и в других качествах. До массового производства подобных решений еще далеко, однако это важнейшее направление, которое повзолит совершить прорыв в микроэлектронике.

Ученые создали первого в мире гуманоидного робота-пилота

По теме

Ученые создали первого в мире гуманоидного робота-пилота

Ученые выяснили, что ChatGPT на самом деле «левак»

По теме

Ученые выяснили, что ChatGPT на самом деле «левак»

Ученые смогли восстановить прослушанную песню Pink Floyd по сигналам мозга

По теме

Ученые смогли восстановить прослушанную песню Pink Floyd по сигналам мозга

Поддержите редакцию 1,5% налога: бесплатно и за 5 минут

Как помочь, если вы в Польше